按Enter到主內容區
:::

:::

張宗裕 副處長

電子束作業處

張宗裕 副處長
台灣積體電路製造股份有限公司 電子束作業處

創新菁英-一般個人組


一路披荊斬棘 張宗裕永不放棄的光罩創新之道

台積公司電子束作業處副處長張宗裕,20多年來戮力於先進光罩的研發,他所研發的技術,擁有改變半導體製程的力量,成為台積邁向下一代製程的關鍵,這亮眼成績的背後,是他對萬物的好奇心與永不放棄的堅持心態。

光罩工業產值雖只佔整個半導體產業產值的1%,但卻是晶圓技術開發之始,在製作半導體元件的製程中,必須先將積體電路設計的數位資訊藉由光罩製程製作出光罩,再透過光罩微影成像與蝕刻技術,形成半導體所需的圖形,也因此提升光罩技術是晶圓技術進步與量產不可或缺的推手。台積電子束作業處副處長張宗裕累積了光罩領域多年經驗,他不僅將多重電子束光罩曝光機研發成功及導入量產,並結合低感度光阻的開發與應用,將光罩技術往前推展,除了為台積的先進製程開發奠立基石,也為光罩工業界帶來創新及提升產業整體價值與應用,如奈米壓印微影等,開創嶄新的研發與運用局面。

紮實基礎 成就創新力量

張宗裕從小就是大家眼中會念書的小孩,尤其對於數學更是拿手。談到數學,張宗裕特別提到他的啟蒙老師朱舜英,「朱老師發現我的數學成績還有進步空間,於是「盯緊」我,特別幫我上課,在那段時間數學科目也奠定了穩固的根基。」之後求學過程一路順遂,他依據志願選填了機械系,機械原理複雜程度不下於數學,張宗裕秉持過去學習數學的態度和方法,專心把原理念好,後來數學和機械這兩門專業,成為他之後工作的重要基礎。

1994 年張宗裕從成大機械工程所畢業,服役完畢後隨即進入巨擘科技公司,擔任副工程師負責鍍膜製程與研發工作。1999 年在朋友的引薦下來到台積電子束作業處就職,擔任光罩曝光機製程與設備工程師,一路在電子束作業處及研發組織歷練,現在則是電子束作業處主管,負責台積十八廠5 奈米光罩量產及3 奈米光罩試量產。

極紫外光微影技術帶路 創新光罩技術

張宗裕深耕光罩領域,除了經歷了光罩工程部,2007 年起亦轉任光罩技術開發轉移部,負責先進光罩技術轉移、試量產及光罩品質提升,2011 年起升任為奈米光罩技術二部部門經理,至2016 年中成功地技術轉移45、40、28、20、16、10、7 奈米等技術節點。近幾年來,先進光罩製程技術快速精進,光罩圖形變得更複雜、細小,製程良率的維持難度快速提高,要解決此問題,業界認為低感度光阻和降低電子束大小是兩大可行之道,不過這也有難度,「若以單一電子束光罩曝光,曝光時間會變得很長,且會有強烈的庫倫效應產生,圖形位置精準性也會大幅受到影響。」

面對未來極紫外光微影技術的需求,光罩的曝光問題必須即刻解決,因此張宗裕在2010 年投入多重電子束光罩曝光機的研發,克服當時單一電子束曝光機的缺點,讓機台在運用低感度光阻時不會拉長曝光時間,光罩上關鍵尺寸與圖形位置精準性也可獲得提升。

不過要將全世界第一台多重電子束光罩曝光機導入量產的難度極高,因為當時多重電子束技術仍在萌芽階段,張宗裕回憶,「那時我們找到的共同開發商艾美思電子束公司,是一間位於維也納剛起步的年輕公司,並沒有真正量產的實力與經驗。」因此台積團隊和艾美思從理論驗證開始,接著找到日本電子公司JEOL 合作曝光平台及相關硬體的製造與整合,艾美思負責電子束平台及相關軟體的開發,台積團隊負責控制多重電子束的核心元件的輔助開發、製造、測試、晶圓切割與電路板製造,2014 年他們將實驗機引入台積進行功能開發與測試,期間屢屢遇到硬體與軟體等問題,秉持著毅力找出解方,最終達成曝光速度達三倍之快、且圖形曝光位置精準性改善幅度達兩倍的成果。2017 年,此多重電子束光罩曝光機成功地導入至台積的7 奈米與5 奈米節點量產,更成為往下3 奈米與2 奈米節點的生產與研發主力。

2017 年將多重電子束光罩曝光機成功地導入產線後,此機台結合低感度光阻的架構,已成為極紫外光光罩製造與研發不可或缺的武器,這也是台積晶圓技術領先同業的一大助力。這項創新成果有效提升了臺灣半導體產業的技術能量與價值,從而提升國家競爭力,張宗裕進一步指出,極紫外光微影是最新且最先進的晶片製造方法,可以提供晶片更好的效能,目前全球六大IC 晶圓廠都積極布局極紫外光微影製程,台積執半導體產業牛耳,對極紫外光製程研發更是不遺餘力,2010 年投入多重電子束光罩曝光機的開發,就是台積超前部署的策略之一。

強化競爭優勢 堅持才能走到底

從1999 年至今,張宗裕在台積從事光罩研發工作已經超過20 年,他一路突破困境,將多重電子束光罩曝光機導入量產,並符合極紫外光微影技術需求,讓台積領先市場,這項技術對競爭對手形成極高的進入門檻,目前仍無第二家多重電子束光罩曝光機設備商導入量產,「這也讓台積擁有難以匹敵的成本競爭優勢。」

延續研發技術與動能,張宗裕正進行下一世代的多重電子束光罩曝光機的研發,「這將使得機台的曝光速度更快、更小、更精準,也為公司帶來更大的競爭優勢。」對於研發,他總是充滿熱情,這股熱情來自對身邊萬物的好奇心與對工作的堅持心態,他也鼓勵年輕人,不管身在任何崗位,都要對工作和生活充滿熱情,因為唯有熱情才會讓你充滿好奇,而有了好奇心之後,就必須堅持下去,正如他這一路走來克服的重重難關,「放棄是最容易的,想盡辦法堅持到底的人,才能看見甜美的成果。」

得獎感言-台灣積體電路製造股份有限公司電子束作業處 張宗裕 副處長

「研發創新是孤獨與漫長之路,最困難的是堅持,感謝有志同道合的夥伴們一同打拼。」

很榮幸能得到這個獎項。首先感謝政府鼓勵企業創新研發,除了要謝謝評審團隊的肯定,更要感謝一路支持我的長官、同事以及在背後陪伴我的家人們。台積一直很重視研發與創新,每年都投入相當高的研發經費,讓我們有豐富的資源不斷創新。能在台積電這個優質環境中,與一群熱忱傑出且志同道合的夥伴們,共同完成多重電子束光罩曝光機的研發並導入量產先進製程光罩,是一件很高興快樂的事。光罩技術研發很辛苦,但看到晶圓技術因而推進,人們生活因此變得更好,就覺得很有成就感。「Stay hungry, stay foolish.」繼續在研發創新之路前進。謝謝大家對我們的鼓勵!

 

  • 發布日期:2023/07/01
  • 最後更新時間: 2024/04/30
  • 點閱次數:965
回頁首